《Silicon》雜志主要發(fā)表物理化學領域的綜述文章。
《Silicon》創(chuàng)刊于2009年，ISSN：1876-990X，是一本由Springer Netherlands出版商出版發(fā)行，是材料科學領域的材料科學-物理化學期刊，該刊已被國際權威數據庫SCIE收錄。在中科院最新升級版分區(qū)表中，該刊分區(qū)信息為大類學科：材料科學3區(qū)，小類學科：物理化學 3區(qū)；材料科學：綜合 3區(qū)；在JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)等級為Q3。
該刊發(fā)文范圍涵蓋CHEMISTRY, PHYSICAL等領域，旨在及時、準確、全面地報道國內外CHEMISTRY, PHYSICAL工作者在該領域取得的最新研究成果、工作進展及學術動態(tài)、技術革新等，促進學術交流，鼓勵學術創(chuàng)新。2023年影響因子為2.8，平均審稿速度 12周，或約稿 。
| 影響因子 | h-index | Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | OA開放訪問 | 平均審稿速度 |
| 2.8 | 19 | 2.42% | 96.53% | 未開放 | 12周，或約稿 |
IF值(影響因子)趨勢圖
中科院JCR分區(qū)趨勢圖
名詞釋義：影響因子 簡稱IF，是湯森路透（Thomson Reuters）出品的期刊引證報告（Journal Citation Reports，JCR）中的一項數據。 即某期刊前兩年發(fā)表的論文在該報告年份（JCR year）中被引用總次數除以該期刊在這兩年內發(fā)表的論文總數。這是一個國際上通行的期刊評價指標，是衡量學術期刊影響力的一個重要指標。
影響因子:6.3
影響因子:3.1
影響因子:38.6
影響因子:5.1
影響因子:14.3
