Plasma Chemistry And Plasma Processing雜志的主題方向是什么？

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志主要發表工程：化工領域的綜述文章。

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》創刊于1981年，ISSN：0272-4324，是一本由Springer US出版商出版發行，是物理與天體物理領域的物理與天體物理-工程：化工期刊，該刊已被國際權威數據庫SCIE收錄。在中科院最新升級版分區表中，該刊分區信息為大類學科：物理與天體物理3區，小類學科：工程：化工 3區；物理：應用 3區；物理：流體與等離子體 3區；在JCR（Journal Citation Reports）分區等級為Q2。

該刊發文范圍涵蓋ENGINEERING, CHEMICAL等領域，旨在及時、準確、全面地報道國內外ENGINEERING, CHEMICAL工作者在該領域取得的最新研究成果、工作進展及學術動態、技術革新等，促進學術交流，鼓勵學術創新。2023年影響因子為2.6，平均審稿速度 較慢,6-12周 。