《Displays》最新IF值（影響因子）為：3.7
IF值(影響因子)趨勢圖
《Displays》是一本由Elsevier出版商出版的專業(yè)工程技術(shù)期刊，該刊創(chuàng)刊于1979年，刊期Bimonthly，該刊已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。
在中科院最新升級版分區(qū)表中，該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科：工程技術(shù)2區(qū)，小類學(xué)科：計(jì)算機(jī)：硬件 2區(qū)；儀器儀表 2區(qū)；光學(xué) 2區(qū)；工程：電子與電氣 3區(qū)；在JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)等級為Q1。
中科院分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2023年12月升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 2區(qū) | COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計(jì)算機(jī)：硬件 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 2區(qū) 2區(qū) 2區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2022年12月升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 2區(qū) | COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計(jì)算機(jī)：硬件 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 2區(qū) 2區(qū) 2區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2021年12月舊的升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計(jì)算機(jī)：硬件 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 OPTICS 光學(xué) | 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2021年12月基礎(chǔ)版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計(jì)算機(jī)：硬件 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2021年12月升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計(jì)算機(jī)：硬件 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 OPTICS 光學(xué) | 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2020年12月舊的升級版）
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 OPTICS 光學(xué) COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE 計(jì)算機(jī)：硬件 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
名詞釋義：中科院分區(qū)是中國科學(xué)院國家科學(xué)圖書館制定，中科院分區(qū)目前分為基礎(chǔ)版和升級版（試行），基礎(chǔ)版先將JCR中所有期刊分為13大類學(xué)科，每個學(xué)科分類按照期刊的3年平均影響因子高低，分為4四個區(qū)；升級版將期刊分為18個大類學(xué)科，涵蓋數(shù)學(xué)、物理與天體物理、化學(xué)、材料科學(xué)、地球科學(xué)等大類學(xué)科；升級版設(shè)計(jì)了“期刊超越指數(shù)”取代影響因子指標(biāo)。期刊超越指數(shù)即本刊論文的被引頻次高于相同主題、相同文獻(xiàn)類型的其它期刊的概率。
在JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)等級為Q1。
JCR分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE | SCIE | Q1 | 14 / 59 |
77.1% |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 112 / 352 |
68.3% |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q1 | 17 / 76 |
78.3% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 30 / 119 |
75.2% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE | SCIE | Q2 | 19 / 59 |
68.64% |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 111 / 354 |
68.79% |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q1 | 17 / 76 |
78.29% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 35 / 120 |
71.25% |
名詞釋義：JCR（Journal Citation Reports）由科睿唯安公司（前身為湯森路透）開發(fā)，JCR分區(qū)將期刊分為176個學(xué)科。該排名根據(jù)當(dāng)年不同學(xué)科的影響因子，分為Q1、Q2、Q3、Q4四個區(qū)域。 Q1代表不同學(xué)科進(jìn)行分類可以影響細(xì)胞因子前25％的期刊，以此作為類推，Q2是前25％-50％的期刊，Q3是前50％-75％的期刊，Q4是后期75％的期刊。
該刊其他指數(shù)：
h-index：51， Gold OA文章占比：6.32%， 研究類文章占比：97.13%， OA開放訪問： 未開放 。
該刊發(fā)文范圍涵蓋COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE等領(lǐng)域，旨在及時、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國內(nèi)外COMPUTER SCIENCE, HARDWARE & ARCHITECTURE工作者在該領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進(jìn)展及學(xué)術(shù)動態(tài)、技術(shù)革新等，促進(jìn)學(xué)術(shù)交流，鼓勵學(xué)術(shù)創(chuàng)新。2023年影響因子為3.7，平均審稿速度 約6.0個月 約22.7周。
影響因子:6.1
影響因子:6.4
