《電子工業專用設備》于1971年創辦，全刊信息多卻有條有理，堅持打造交流思想和經驗共享的主流平臺，國內刊號為：62-1077/TN，創刊多年來受到許多讀者的支持和喜愛。
《電子工業專用設備》是目前國內電子專用設備領域唯一獲正規出版發行的權威專業刊物，多年來為推動我國電子專用設備的發展發揮了極其重要的作用。
Ⅰ、編號應頂格書寫。有標題時，在編號后空一字再寫標題，另起一行寫具體內容。無標題時，編號后空一字寫具體內容。
Ⅱ、第一作者必須注明出生年月、性別、籍貫、職稱、學歷、從事的研究方向或領域；通訊作者必須注明其職稱、學歷以及從事的研究方向或領域。
Ⅲ、文稿要求論述充分有力，研究方法嚴謹創新。
Ⅳ、參考文獻按出現的次序列在文末，并在文中對應位置以右上角方括弧中的數字表示。詳細參考文獻格式，見往期雜志。
Ⅴ、摘要是以提供文獻內容梗概為目的，不加評論和補充解釋，簡明、確切地記述文獻重要內容的短文。
| 學者姓名 | 發文量 | 主要研究主題 |
| 童志義 | 43 | 光學光刻；集成電路；光刻；硅；CMP |
| 鮮飛 | 42 | 表面貼裝技術；SMT；貼片機；波峰焊；SMT生產 |
| 翁壽松 | 30 | 半導體產業；半導體；半導體設備；銅互連；應變... |
| 柳濱 | 21 | CMP；化學機械拋光；化學機械平坦化；拋光液；... |
| 陳大鵬 | 21 | 半導體器件；刻蝕；MEMS；溝道；焦平面陣列 |
| 顏景平 | 19 | 機器人；冗余度機器人；料器；球磨機；回轉誤差 |
| 周國安 | 18 | CMP；化學機械平坦化；化學機械拋光；拋光液；... |
| 葉甜春 | 17 | X射線光刻；溝道；半導體器件；版圖；襯底 |
| 楊洪星 | 17 | 單晶片；鍺；拋光片；晶片；表面粗糙度 |
| 譚立杰 | 17 | 晶圓；直線電機；激光加工；伺服控制；ETHERCAT |
| 機構名稱 | 發文量 | 主要研究主題 |
| 中國電子科技集團公司... | 646 | 半導體；光刻；晶圓；電機；拋光 |
| 中國電子科技集團公司... | 229 | 真空；電池；低溫共燒陶瓷；太陽能... |
| 中國電子科技集團公司... | 168 | 電池；太陽能電池；太陽能；均勻性... |
| 中國電子科技集團公司... | 118 | 單晶；硅單晶；硅片；晶片；區熔 |
| 電子工業部 | 115 | 半導體；光刻；曝光機；切片；切片... |
| 北京中電科電子裝備有... | 92 | 晶圓；劃片；劃片機；鍵合；封裝 |
| 中華人民共和國工業和... | 75 | 光刻；電路；電子專用設備；集成電... |
| 中國電子科技集團公司 | 68 | 電路；集成電路；化學機械拋光；機... |
| 中國電子科技集團第十... | 66 | 光刻；刻蝕；激光；光刻機；投影光... |
| 中國科學院 | 54 | 光刻；光刻機；電路；半導體；電子... |
| 涉及文獻 | 資助項目 |
| 39 | 國家自然科學基金 |
| 37 | 國家高技術研究發展計劃 |
| 29 | 國家科技重大專項 |
| 7 | 國家重點基礎研究發展計劃 |
| 6 | 海南省自然科學基金 |
| 3 | 湖南省自然科學基金 |
| 3 | 國家火炬計劃 |
| 2 | 國防基礎科研計劃 |
| 2 | 電子信息產業發展基金 |
| 2 | 國際科技合作與交流專項項目 |
| 涉及文獻 | 資助課題 |
| 9 | 國家高技術研究發展計劃(2005AA404210) |
| 8 | 國家科技重大專項(2009ZX02011-005A) |
| 8 | 國家自然科學基金(60576053) |
| 5 | 國家高技術研究發展計劃(2009AA043103) |
| 3 | 國家科技重大專項(2012ZX04001-022) |
| 3 | 國家高技術研究發展計劃(20094A043103) |
| 3 | 國家高技術研究發展計劃(2002AA311243) |
| 3 | 國家自然科學基金(50390064) |
| 3 | 國家火炬計劃(2003EB041301) |
| 2 | 國家科技重大專項(2009ZX02010-17) |
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